На шляху до технології зниження вартості фотоелектрики


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Проведені під IRDEP, R & D інституту по фотовольтаїки, проект, який приносить CISEL EDF, CNRS і ENSCP, Національна школа хімії в Парижі, спрямована на розробку технології фотоелектричної до вартість / продуктивність в розмірі 1 € за пік ватту.

Alors que 99 % du marché du photovoltaïque sont occupés par des systèmes à base de silicium (cristallin ou amorphe), le projet CISEL mise sur un procédé permettant de déposer le matériau actif à base de CIS (cuivre, indium, sélénium), c’est-à-dire l’absorbeur qui convertit la lumière en électricité, directement sur un substrat verrier associant un contact métallique, du molybdène, du sulfure de cadmium et de l’oxyde de zinc. En fait, les technologies dites »couches minces » existent depuis plusieurs années, et même si elles sont moins performantes en terme de rendement photovoltaïque, le gain en matière première de l’ordre de 2 microns mètres au lieu de 200 à 100 µm, constitue un atout. Toutefois, elles font appel à des procédés de fabrication des panneaux dits »sous vide » de type co-évaporation ou sputtering, qui s’avèrent relativement coûteux et qui, in fine, ne créent pas la rupture économique par rapport aux systèmes à base de silicium.


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